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原子沉积系统ALD
标准型（Standard ）设备
价格低、质量高、可任选附件进行搭配
结构简单，操作方便，后期维护简单易行
用途广，适合各种基底材料
原子沉积系统ALD ——扩展型（Flexivol）设备
腔室体积可根据用户样品的尺寸灵活调节，同一腔室可通过简单的调节适用于不同厚度的样品
增多前驱体源入口数目，避免腔室体积增大对前驱体化学源气氛分布的影响
ALD原子层沉积系统——高度定制化（Non-Standard）设备
为工业客户提供薄膜沉积方案
放大基于标准研究型设备检验的相同技术
根据客户的特殊需求，加工定制，满足特殊应用及大规模的生产需要
研发（R&D）服务
开发新的薄膜沉积方案
诊断、改进现有ALD的工艺
为潜在的客户做覆膜演示
薄膜沉积工艺咨询
原子层沉积系统ALD技术参数
不锈钢材质腔室，根据客户样品尺寸有不同的腔室直径（D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm）和高度（H = 20 mm, H = 50 mm）可选；前驱体进样系统标配四路（包含冷和热两种前躯体），可配至八路
前驱体进样系统配有快速气动阀门
多段温度控制
前驱体温控0-200 °C，精度1 °C
腔室温控0-300 °C ，精度1 °C
进出腔室管路温控0-150 °C ，精度1 °C
基本压强 10^−1/10^−3 mbar
设备尺寸 1000x600x1000 mm
触控控制系统
系统当前状态信息显示：气流速度、温度、压力和阀门开度等
工艺监控：温度和压力等
偏差报警和安全锁
菜单操作，实时监控
可增配选项
等离子体发生器 借助等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能
臭氧发生器 提供强氧化剂，增大ALD生长的前驱体选择范围
石英晶体微天平 在线监测薄膜沉积的厚度
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